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· 最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
节省空间
标准的设备占地面积为4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往机型占用空间更小，外形更加紧凑美观。
低功耗
正常工作时的功耗约为3kVA，仅需以往机型耗电量的1/3。
高产能
具备高分辨率和高速两种刻写模式，非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时，并将扫描频率提升至业界最高最水准的125MHz (以往机型的1.25～2.5倍)，使其具备更高的生产能力。
机型
JBX-8100FS系列设有G1（基本版）和G2（全配版）两种机型。G1机型装机后也可进行升级，使其支持更高的应用需求。
新功能
安装光学显微镜（选配）后，在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔（标配），实现了视觉范围内的系统运行状况监控。
激光定位分辨率
采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪，对样品台位置进行高精度的量测控制。
系统控制
配备了Linux®系统，图形用户界面使操作更加简单，便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®
主要技术指标
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机型 |
G1 (基本版) |
G2 (全配版) |
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描画方式 |
圆形束斑, 矢量扫描, 步进重复移动方式 |
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加速电压 |
100kV |
100kV/50kV |
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电流 |
5×10-12 ～ 2×10-7A |
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写场尺寸 |
最大1,000μm×1,000μm |
最大2,000μm×2,000μm |
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扫描频率 |
最大125MHz |
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样品台移动范围 |
190mm×170mm |
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套刻精度 |
≦±9nm |
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场拼接精度 |
≦±9nm |
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正常工作时的功耗 |
3kVA |
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样品尺寸 |
最大200mmΦ的晶圆片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小样品。 |
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材料传送 |
（1张）自动装载系统 |
（12张）自动装载系统 |
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主要选配件 |
光学显微镜 |
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