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    美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000

    应用于半导体行业：

    半导体加工设备-光刻设备-其它光刻设备

    产品品牌

    美OAI

    库       存：

    1

    产       地：

    全国

    数       量：

    减少 增加

    价       格：

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    品牌：美OAI

    型号：

    所属系列：半导体加工设备-光刻设备-其它光刻设备

     
    美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000
     
    详细介绍

    美国 OAI 光刻机:
    Model  2000 手动曝光机,实验室用 ,
    Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,
    Model  5000 全自动曝光机,生产型
    Model  2000 全自动边缘曝光系统,生产型

    OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使OAI成为光刻设备行业的领导者。 200型是台式面罩对准器，需要最小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。

    对准模块具有掩模插入件组和快速更换晶片卡盘，其便于使用各种衬底和掩模，而不需要用于重新配置的特殊工具。对准模块包括X，Y和Z轴的微米。

    200型掩模对准器具有可靠的OAI紫外光源，其在近紫外或深紫外中提供准直的紫外光，使用功率从200至2000瓦的灯。双传感器，光学反馈回路连接到恒定强度控制器，以提供在所需强度的±2％内的曝光强度的控制。可以快速和容易地改变UV波长。该掩模Aligner是一种灵活，经济的解决方案，适用于任何入门级掩模对准和UV紫外光照射应用.

    OAI在MEMS和微流体装置方面的产品主要包括 : 

     

    光刻机        

                                                                                  

     

    光源

    以工作稳定，出光效率高，高均匀性和散射角小而著称。且可提供 20” 以上的大面积光源。


     

    光功率计及分析仪

    OAI光功率计以其测量精度，重复性著称。测量数据符合美国NIST标准。广泛应用于半导体光刻能量测量及控制。

     

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