瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机_电子束曝光机_光刻设备_半导体加工设备_设备馆

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瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机

源自IBM最新研发成果

    NanoFrazor纳米3D结构直写机的问世，源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的最新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机第一次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。

    NanoFrazor采用尖端直径为5nm的探针，通过静电力精确控制实现直写3D高精度直写，并通过悬臂一侧的热传感器实现实时的形貌探测。相对于其他制备技术如电子束曝光/光刻技术(EBL), 聚焦离子束刻蚀(FIB)有以下特点：

   ■   3D纳米直写能力
         高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)

         高速直写 20 mm/s 与EBL媲美
   ■   无需显影，实时观察直写效果
         形貌感知灵敏度0.1nm

         样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 5nm

   ■   无临近效应

         高分辨，高密度纳米结构

   ■   无电子/离子损伤

         高性能二维材料器件

   ■   区域热加工和化学反应

         多元化纳米结构改性

   ■   大样品台

         100mm X 100mm

新产品发布：NEW！！ NanoFrazor Scholar --小面积直写

   ■   3D纳米直写能力
         高直写精度 (XY: 30nm, Z: 1nm)

         高速直写 10 mm/s
   ■   无需显影，实时观察直写效果
         形貌感知灵敏度0.1nm

         样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 10 nm

   ■   无临近效应

         高分辨，高密度纳米结构

   ■   无电子/离子损伤

         高性能二维材料器件

   ■   区域热加工和化学反应

         多元化纳米结构改性

   ■   小样品台

         30mm X 30mm

独有的直写针尖设计



    普通的AFM针尖无法满足上述NanoFrazor直写流程的需求，因此NanoFrazor所用针尖是由IBM专门研发设计的。该针尖具有两个电阻加热区域，针尖上方的加热区域可以加热到1000^oC。第二处加热区域作为热导率传感器位于侧臂处，其能感知针尖与样品距离的变化，精度高达0.1 nm。因此在每行直写进程结束后的回扫结构时，并不是通过针尖起伏反馈形貌信息，而是通过热导率传感器感应形貌变化，从而实现了比AFM快1000余倍的扫描速度，同避免了针尖的快速磨损消耗。

NanoFrazor技术特点



其他功能

● 纳米颗粒有序定位排列

● 纳米局部化学反应诱导
● 表面化学图案、结构生成

纳米颗粒有序定位排列

氧化石墨烯的定位还原



图形转移
    通过NanoFrazor3D纳米结构直写机获得的纳米图形结构，可以通过传统成熟的工艺技术，如干法刻蚀，电镀、注射成型法等进行图形转移。



应用领域

^{快速原型设计开发}

^{● 衍射透镜，全息图}

^{● 非球面微透镜阵列}

^{● 波导纤维、光子晶体}

^{● MEMS/NEMS}

^{● 表面等离子激元，超材料}

^{● 纳米磁学}

^{● 纳米电子器件}

^{● 生物细胞研究}

^{● 纳米流体控制}
^{● 反物质物理学}
^微纳结构

^●^防伪标识

^●^DFB^激光、

^●^A^SICs^{的关键部位加工}

^模板加工

^●^光掩模板

^●^{纳米压印印章}

^●^{注射成型模具}

瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机

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