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EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
00001. 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
00002. 155mm的平台
00003. 最小曝光特征尺寸小于8nm
00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
00005. 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，最大可以到1mm
00006. GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
00007. 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
可选的系统增强升级
EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。
EBPG5150 应用
·  电子束曝光用于制作GaAs T型器件
·  微盘谐振器
·  开口环谐振器
EBPG5150 产品详情
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主要应用：
· 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
· 高速电子束直写
· 批量生产，如化合物半导体器件
· 防伪标识
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电子光学柱技术：
· EBPG
· 电子束
· 100 kV
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样品台：
· 覆盖完整6英寸硅片大小
· 标配2工位自动化上料
(10工位可选)
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