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当前位置: 首页 » 设备馆 » 半导体加工设备 » 光刻设备 » 电子束曝光机 »德Raith Pioneer Two 电子束光刻机
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    德Raith Pioneer Two 电子束光刻机

    应用于半导体行业：

    半导体加工设备-光刻设备-电子束曝光机

    产品品牌

    德Raith

    库       存：

    1

    产       地：

    全国

    数       量：

    减少 增加

    价       格：

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    品牌：德Raith

    型号：

    所属系列：半导体加工设备-光刻设备-电子束曝光机

     
    德Raith Pioneer Two 电子束光刻机
    详细介绍

    Pioneer Two 电子束光刻机：

    德 Raith Pio<em></em>neer Two 电子束光刻机.png



    1.           系统适用于2"及以下的样片，采用热场发射电子枪，加速电压为20V~30kV。可实现高分辨电子束曝光，最小验收线宽≤8nm。
    2.       系统中集成了高精度的激光干涉工作台，运动行程为50 x 50 x 25mm，XY方向定位精度为2nm，可以实现精确的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
    3.       系统兼具了高精度成像度量的功能，其成像效果和市面上中高端的热场电镜类似，放大倍数为20x ~1,000,000x。 
    4.       另外，除了标准配置, 客户还可以增加一些选配件，如选配背散射探测器、能谱仪等，进行材料分析；选配工作台旋转倾斜模块，实现不同角度的材料成像等。如果选择相应的选配件，请增加相应的价格。

     

       

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