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德国高精密激光直写绘图机
非接触式曝光
可支持高效数位光刻与灰度光刻
MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。
与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm²的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。
MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。
功能
基板到9 x 9”
标准版:1µm结构
高分辨率版本:结构可达600纳米
²暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)
非接触式曝光
光源为405 nm和375 nm
基于SLM光引擎
多种数据输入格式
校准精度为500纳米
背面对齐
实时自动对焦
抵制数据库
自动标记和序列化
