网站首页

|EN

当前位置: 首页 » 设备馆 » 半导体加工设备 » 光刻设备 » 双面光刻机 »德国 Nanoscribe 双光子微纳3D打印机
    包邮 关注:1372

    德国 Nanoscribe 双光子微纳3D打印机

    产品品牌

    德国Nanoscribe

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:德国Nanoscribe

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-双面光刻机

     德国Nanoscribe 双光子微纳3D打印机,双光子飞秒激光直写仪


     

    总体上来说,我们的机器的优势是他的精度,达到150纳米,跟传统的3D打印机相比足足高了两个数量级。客户大多数是世界顶尖大学和研究所。使用我们的系统他们可以把微纳加工与3D打印完美的结合起来,制备出非常fancy的研究工作以发在高端学术期刊上。

    系统最小能够做到的横向特征尺度为150纳米。

    应用包括光子学,等离子体激元,微光学,微结构力学,微流道以及生物医学等等:


    在下面我想在不同的应用领域与大家分享客户的例子。
     例如,我们的客户可以通过将功能性颗粒混入聚合物材料以改变三维构型的材料性能.

    微光学:该系统被用来打印聚合物材质的微透镜或微光学元件。然后用此做为模具进行规模化生产。最后一张照片显示的是转换为镍以后的负模。

      

     

    光子带隙材料: 瑞士弗莱堡大学的Frank Scheffold小组最近的一个工作是通过3D打印的聚合物作为模板,然后通过原子层沉积(ALD)工艺在空隙中填入高折射率的二氧化钛,最后通过煅烧过程除去聚合物,得到了纯的二氧化钛光子晶体。


    无堵塞微流道:
     一种简单的加工微流道的方法是整片衬底上涂上SU-8,然后使用Nanoscribe的光子专业Photonic Professional GT打印出较精细部分的结构,然后再次使用标准的无掩模光刻系统对其它部分进行曝光。 下图是此法加工的无堵塞3D微孔。 200μm高的SU-8中打印出的3D微滤器(设计版权:IMSAS):


     

    通过将纳米颗粒混合到光刻胶中直接打印的导电元件:

    我们来自美国内布拉斯加大学林肯分校的客户陆永峰教授课题组将光刻胶与碳纳米管(MWNT-硫醇-丙烯酸酯(MTA)混合,直接打印制造导电元件。此法打出的器件达到了高达47S/m的电导率。

     


    超轻超硬力学超材料:

    德国卡尔斯鲁厄理工的Oliver Kraft课题组3D打印制造了聚合物晶格,然后通过隔氧加热将其热解并收缩了五倍大小,得到的单柱短于1μm,直径小至200 nm的力学晶格。 此外,材料转化为玻璃碳,强度高达1.2Gpa而其密度仅有区区0.6克每毫升。 仅仅钻石比其具有更高的强度与密度比。 也许这种方法也可以用于其他应用领域(例如光子学)来减少特征尺寸。




    到目前为止,全球安装了100多台系统,比如说牛津大学,伦敦帝国理工大学,苏黎世苏黎世大学,加州理工学院和哈佛大学等知名大学(前四所高校已经订购了第二系统)。

     


    3D
    印刷金色城堡的尺寸:长10毫米,高2.5毫米,6毫米深。 
    3D
    模型:由Liegenschaftsamt Karlsruhe


     

     

     

    咨询

    购买之前,如有问题,请向我们咨询

    提问:
     

    应用于半导体行业的相关同类产品:

    服务热线

    4001027270

    功能和特性

    价格和优惠

    微信公众号