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    管式扩散氧化退火炉(低压管式高温扩散炉)

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-炉类设备-退火炉

    产品品牌

    捷佳伟创

    库       存:

    10000

    产       地:

    中国-广东省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:捷佳伟创

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-炉类设备-退火炉

     
    产品描述:

    ·高方阻:140Ω

    ·高均匀性:≤±4%,±2%,±2%(片内,片间,批间)

    ·大产能:1000片/舟(DS-300E),1200片/舟(DS-320),2.38mm间距

    设备名称:管式扩散氧化退火炉(低压管式高温扩散炉)

    设备型号:DOA-300/DOA-320

    设备用途:主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片的掺杂形成PN结。

    工艺流程:

    石英舟及硅片准备→插片→上料→选择工艺运行→进舟→抽真空→升温稳定→通氧→通源→推进→恒温→出舟→下舟冷却→测试→卸片      

     技术特点:

    · MES控制功能。

    · 低压扩散功能。

    · 防撞舟技术。

    · 源压稳定技术。

    · 作适应性变更,可兼容硼扩散工艺技术。

    · 高方阻技术解决方案。

    · 自动装卸舟。

    · 具备侧出舟功能(可选)。

    · 智能化控制。

    · 匹配S.C智能化生产管理系统。

    设备参数

     

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