网站首页
购物车
用户中心
全部产品分类
提示信息
免费咨询行业专家
服务热线
4001027270
SVT Associates' NorthStar™ 原子层沉积(ALD)系统
工作原理：
一个ALD 周期 由2个不同的表面化学反应组成， 反应可自我终结，所以只有一个原子层的薄膜会在衬地的表面上生长。在一层接一层的生长过程中，薄膜可以高度保型和厚度均匀。而薄膜的厚度可以在纳米范围内由反应周期的数量来控制。
特点：
- 最多8 个前趋体源
- 热壁沉积腔体
- 能够与其他沉积系统和计量工具连接
- 自动化系统 /软件 - RoboALD™
应用范围：
- 高k电介质
- 纳米涂层
- 表面修饰层
- 器件封装
- MEMS
- 光子晶体
