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脉冲激光分子束外延 (Pulsed Laser MBE)
工作原理：
高功率脉冲激光束聚焦在腔体并轰击用来沉积的靶材。吸收了高能量的激光，靶材会被激发，蒸发，溅射和形成等离子体。最后在存底上沉积成薄膜。这个过程可在超高真空或存在背景气体下（常用氧气）发生。
特点：
- 超高真空环境（
- 6个可旋转 的PLD靶
- 高功率准分子激光
- 全计算机控制与数据记录
- 多个沉积源
- 先进的原位样品温度和膜厚监控
- 定制的组合泵
应用范围：
- 氧化物半导体
- 高Tc超导体
- 光学晶体
- 电光薄膜
- 铁电和铁磁材料
