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KD-1型 大面积曝光机 上海学泽光学机械有限公司 设备商城
本机适用于液晶、特种器件、特种电路、传感器及制版、晒版、印刷电路板、标牌和在金属薄片上制作精密图形等。
主要技术参数
| 1、基片尺寸（mm）： | ≤200*200，厚度（mm）：≤5 |
| 2、基片材料： | 硅片、玻璃、陶瓷、铌酸锂、覆箔板、铝板、铜板和不锈钢板等 |
| 3、掩模材料： | 玻璃、涤纶片 |
| 4、曝光幅面（mm）： | 200*200 |
| 5、曝光谱线（nm）： | 365、405 |
| 6、曝光均匀性： | ≤±10% |
| 7、曝光方法： | （a）真空接触曝光；（b）接触曝光
|
| 8、曝光分辨率（mm）： | ≤0.01 |
| 9、曝光时间（s）： | 0.1~99.9 |
| 10、外界要求： | 真空源≤-0.08Mpa。电源220V±10% |
