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产品名称：DS-2000/14G型光刻机 |
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主要技术指标： |
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| 单次曝光面积：1.4mm×1mm | ||
| 最大曝光基片：100mm ×100mm | ||
| 对准精度：±0.8μm（半自动对准） | ||
| 最大胶厚：300μm（SU8胶） | ||
| 自动逐场对焦； | ||
| 分辨力：1μm； | ||
| X、Y、Z、θ四自由度电动位移台 | ||
| X、Y平移重复定位精度：0.65μm（3σ） | ||
| Z向运动精度：1μm | ||
技术特点： |
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| 该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源，用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板，采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明，并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统（可同时使用），拼接获得大面积图形，曝光设定采用微机控制，菜单界面友好，操作简便。 | ||
