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适用于H₂、 Ar、He、Ne、 Kr、Xe。独家专用技术脱除原料气中的O₂、CO、H₂、N₂、CO₂、H₂O、CH4、碳氢化合物至PPb级。
※HPC终端OM系列纯化器采用吸气剂（GATTER）为消耗型填料，不可再生（可有限次激活）。吸气反应器设计使用寿命为2~3年，失效后整体更换。用户为减少gatter消耗，可加预处理系统。
产品特点 ：
◆脱除杂质深度高
◆吸附容量大， 使用时间长相比国内现有的纯化工艺，HPC –OM型纯化技术不释放碳氢化合物，常温工作，节能环保。非消耗型纯化材料，降低成本，纯化深度高，使用寿命长。
◆可激活 HPC-M系列所用纯化材料为镍触媒催化剂，非消耗材料，可再生循环使用，成本低。初始调试后直接使用。
◆应用范围广
应用领域：
MOCVD，MBE（化合物半导体工业）、
SOI(硅晶体生长)、
LED（半导体照明）
IC（大规模集成电路）
PV（光伏太阳能）
气体净化、
光学纤维生产、
惰性气体激光器、
气相色谱仪等
光刻
零点气纯化
高纯度焊接
