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    矽晶圆雷射剥离系统 Wafer Laser De-bonding Equipment

    应用于半导体行业:

    半导体封装设备

    库       存:

    1000

    产       地:

    中国-江苏省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体封装设备

    矽晶圆雷射剥离系统 Wafer Laser De-bonding Equipment

    • IBM专利高效率雷射剥离系统,采355nm固态雷射(solid-stale Lascr),使用冷切割、无热效应,高频快速扫瞄。
    • 雷射配合特殊的剥离涂层,特殊薄涂层、对雷射吸收度高,抗化性优、高温稳定度佳(350℃)
    • 可搭配市面上多种贴合剂、胶材(可适于高温或低温)。
    • 维护成本低。
    • 低功率雷射,避免伤害晶圆。
    • 适于12"晶圆和方型(Panel Size)扇出型晶圆级封装。

    应用

    半导体业:2.5D/3D IC、三五族、通讯晶片、扇出型晶圆级封装
    (Fan-Out Wafer Level Packaging ; FOWLP) IGBT/Power Device , Glass/Organic/Si Interposer
    光电业:Flexible OLED Dispaly, Thin Touch Sensor, Thin Glass Handling

    扇出型晶圆级封装(Fan-Out Wafer Level Packaging ; FOWLP)制程


    矽晶圆清洗设备 Wafer Cleaning Equipment

    • 快速清洗残胶。
    • 具有晶圆切割胶带(Dicing Type)保护设计,可避免化学药剂伤害。
    • 快速平行处理,可以同时清洁多片晶圆。
    • 多模组设计,解决现阶段产出速率过慢的问题。
    • 化学药剂可回收循环使用。
    • 节能设计。

    矽晶圆贴合系统 Wafer Bonding Equipment

    • 适用8~12"晶圆,可快速的加热及冷却,并均匀进行温度控制。
    • 特殊设计的冷却压合控制,可控制晶圆翘曲(warpage)。
    • 多个贴合模组的安排,可以同时处理多片晶圆,产出速率更快。
    • 可适用高温制程及低温制程。
    • 温度、压力数据即时监控,以及闭回路压力补偿,能掌握及控制调整即时的制程变化。

    应用
    2.5D/3D IC、背照式感光元件、三五族、通讯晶片、S01晶圆相关、微机电系统、扇出型晶圆级封装 (Fan-Out Wafer Level Packaging ; FOWLP)

     

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