热门产品

看了该商品的顾客还看了

LHQ-200型PECVD淀积系统 Leuven鲁汶仪器（中国北京）

产品展示》薄膜镀膜

LHQ-200A型PECVD淀积系统

系统简介

l具有平行板电极结构，可进行8英寸片薄膜生长的单腔室设备。

l能淀积SiO2,SiN以及本征α-Si等薄膜。

l适用于半导体器件和IC制备中钝化膜的淀积。

l采用带触摸屏的集成工控机自动控制工艺流程，可靠性高，工艺重复性好，经久耐用。

l用户可自设定和记录多种实验程序，操作简单、效率高。

l可广泛地用于微电子、光电子、太阳电池、半导体器件和传感器等领域。

机器性能

1、可以在200℃~300℃下淀积SiN、SiO2和不掺杂的非晶硅等薄膜；

2、均匀性：≤±5%；

3、淀积速率： SiO2≥30nm/min (采用Ar稀释的5%安全浓度的SiH4)。

标准配置

1、阳极氧化铝反应腔室；

2、载片台（下电极）可放最大样片尺寸：8"圆片或152mm×152mm的方片。样片温度在200~350℃可调；

3、5路进气，5个数字式质量流量计控制流量，可定制增减；

4、射频电源，带自动匹配器；

5、分子泵机组抽本底真空，机械泵抽淀积时的反应气体；

6、工艺过程由带触摸屏的集成工控计算机控制。工艺条件可预设定；

7、有严格的捡漏、互锁、报警和强排风等防毒、防爆的安全措施。

关于我们

江苏鲁汶仪器有限公司是由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省邳州市，在比利时设有研发中心及销售部，在北京和俄罗斯设有销售部。公司秉承“以创新为主导，客户信赖为第一”的宗旨，倡导精益求精的工匠精神，为客户提供性能卓越的半导体研发、生产、材料检测等精密设备及配套技术服务。

公司旨在研发与生产大学实验室、研究所及半导体生产线所需仪器设备，瞄准定制化市场。主要产品有薄膜材料纳米孔径分析仪、高端平台刻蚀机、等离子体刻蚀系列设备、化学气相沉积系列设备、溅射薄膜镀膜系列设备、原子层镀膜系列设备、湿法清洗刻蚀系列设备等，公司拥有自主专利技术，核心产品技术国际领先。

公司坚持以人为本，技术团队囊括诺贝尔奖获得者、两名“千人计划”专家，多名国内外半导体领域知名教授及高校科研院所的年轻技术骨干。国际一流的人才团队为公司保持技术领先、实现创新驱动打下了坚实的基础。

LHQ-200型PECVD淀积系统 Leuven鲁汶仪器（中国北京）

应用于半导体行业：

产品品牌

规格型号：

库存：

产地：

数量：

价格：

热门产品

看了该商品的顾客还看了

产品展示》薄膜镀膜

LHQ-200A型PECVD淀积系统

关于我们

咨询

LHQ-200型PECVD淀积系统

装箱清单

售后保障

应用于半导体行业的相关同类产品：

LHQ-200型PECVD淀积系统 Leuven鲁汶仪器（中国北京）

应用于半导体行业：

产品品牌

规格型号：

库 存：

产 地：

数 量：

价 格：

我要询价

热门产品

看了该商品的顾客还看了

产品展示 》薄膜镀膜

LHQ-200A型PECVD淀积系统

关于我们

咨询

LHQ-200型PECVD淀积系统

装箱清单

售后保障

应用于半导体行业的相关同类产品：

库存：

产地：

数量：

价格：

产品展示》薄膜镀膜