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高温退火炉应用领域用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺

产品名称：高温退火炉
应用领域：用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺
关键字：高温退火炉、SiC高温退火炉、碳化硅高温退火炉
产品咨询电话：4008-110044
产品详细描述：

工艺：用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺
晶圆规格：2”4”6”SiC、GaN等晶圆
设备结构：水平/垂直
工艺温度：1850/2000℃
炉体温度：可达2000℃或更高
生产能力：研发型/小批量，生产型
设备特点：
优化结构设计占地面积小
灵活多样的工艺调整
半自动/全自动的选择
快速的升降温：如200℃/min
极限真空 1 Pa
压力控制：如100 Pa至300Pa(或其他要求)
多种的装片方式

极方便的操作、维护方式
极低维护使用成本
极高的可靠性

终生的技术支持！

青岛精诚华旗微电子设备有限公司(青岛华旗科技有限公司，建于1993年)，为专业半导体工艺设备及先进材料专用设备研发制造厂家。致力于为半导体集成IC电路分立器件、MEMS、太阳能电池、半导体照明LED及磁性材料厂家提供先进的专用设备，工艺涵盖化合物半导体晶体生长（及提纯、合成等）、外延、薄膜淀积（氮化硅、氧化硅、多晶硅等）、氧化扩散（包括退火合金含工艺及快速退火工艺等）、真空烧结等工艺。半导体工艺设备覆盖三代半导体材料--硅、砷化镓、氮化镓等，高性能磁性材料真空设备（钐钴、钕铁硼等）。同时承担了部分国家863项目（如半导体白光照明GaN生长的HVPE设备等）及相关的国家重点项目等。
    青岛精诚华旗（“华旗科技”）拥有十几年的专业研发制造经验，产品服务广泛应用于行业内的大专院校科研院所、半导体制造、高性能磁性材料制造的企业工厂等。
     青岛精诚华旗（“华旗科技”）拥有精良的科研、设计、制造、服务团队，为中国电子专用设备协会、中国磁性材料与器件协会等多家协会会员单位，承接并出色完成了一系列国家重点项目的专用设备的设计制造。
    2006年通过GB/T19001-2008(ISO9001:2008)质量管理体系认证。
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