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 产品名称： 高温氧化炉 |
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| 应用领域：用于SiC或Si的高温氧化等工艺 |
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| 关 键 字：高温氧化炉、SiC高温氧化炉、碳化硅高温氧化炉 |
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| 产品咨询电话：4008-110044 |
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| 产品详细描述： |
工艺：用于SiC或Si的高温氧化等工艺
晶圆规格：2”4”6”SiC/Si晶圆
设备结构：水平/垂直
工艺温度：1350/1380℃
炉体温度：可达1500℃或更高
生产能力：研发型/小批量，生产型
设备特点：
优化结构设计 占地面积小
灵活多样的工艺调整
半自动/全自动的选择
极限真空 1 Pa
压力控制：如0.8 Bar至1Ba(或其他要求)
多种的装片方式
极方便的操作、维护方式
极低维护使用成本
极高的可靠性
终生的技术支持！
青岛精诚华旗微电子设备有限公司成立于1993年(青岛华旗科技有限公司，2009年)，为专业的IC集成电路及器件工艺、半导体材料（晶体生长等）、半导体特气及废气处理、精密真空热处理炉（磁性材料等，成套）设备及解决方案的高科技研发制造企业。致力于为IC集成电路、功率器件、MEMS器件、LED、太阳能电池、新材料等制造厂家及科研院所提供先进的工艺设备（含成套设备及解决方案）。
出色地完成了部分国家863项目（如GaN厚膜晶体生长的HVPE系统、MOCVD系统等）等。
GB/T19001-2008(ISO9001:2008)质量管理体系认证。
主要产品：氧化扩散炉系列、LPCVD 系统、PECVD系统、HVPE系统、MOCVD系统、RTP快速热处理、气瓶柜、半导体尾气（废）处理SCRUBBER，真空热处理炉、链式炉系列、扩散炉体系列等。
