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    LP16C平面精密环抛机

    库       存:

    999

    产       地:

    中国-江苏省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-晶圆减薄抛光设备-抛光机

     

    LP16C平面精密环抛机

    用于高精度光学玻璃、石英、晶体、金属和非金属高精度平面元件的单面精密抛光. 抛光盘和基座之间采用外齿圈大型精密环形轴承结构.主动轮旋转机构, 对于加工大型零件起到了很好的自转功能。校正盘上下盘电动吊装功能,省时省力,安全可靠。机床具有各传动系统无级调速、定时控制、计数控制、顺序控制、远程故障报警等功能。

    设备的操作简单、灵活,充分地满足于高精度光学加工工艺的要求。

     

    主要技术参数

    1、磨盘尺寸(花岗岩)

    Φ1600×250( mm)

     

     

    2、水盆直径

    Φ1860 mm

    3、盘面跳动

    ≤0.10mm

    4、单点跳动

    ≤0.02mm

    5、磨盘转速

    0.5~3转/分

    6、加工范围

    Φ≤500mm

    7、主动轮转速

    0~22转/分

    8、卡钳前后移动距离

    200mm

    9、校正盘直径

    Φ850mm

    10、机床总功率

    4.7KW/380V

    11、机床重量

    约3000 kg

    12、外形尺寸

    2030×2250×1480(mm)

    机床的任何特殊需求都可根据用户的要求设计、制造。

     

     

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