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    多晶合成炉

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-长晶设备-多晶炉

    库       存:

    10

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

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    交易保障 担保交易 网银支付

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    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-长晶设备-多晶炉

     应用领域:

    用于多晶、材料等合成,GaAsCdTe

    产品特点:

    1)方式:常压/高压

    2)生长规格:26寸及其他规格

    3)炉体结构:水平/立式

    4)温控器对高低温双炉体分别进行高精度控温,保证合成过程安全稳定

    5)水冷系统对工艺过程安全有保护作用

    技术指标:

    1)电源电压:380V

    2)控温精度:±0.2

    3)功率:35KW

    4)炉膛尺寸:120mm

    5) 高温炉体长度:900mm

    6)低温炉体长度:750mm

    7)高温炉体长期工作温度:1250

    8)低温炉体长期工作温度:1250

    9)冷却方式:水冷

    10)设备尺寸:2000mm*500mm*1700mm

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