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    CVD腐蚀清洗台

    库       存:

    99

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付
            1.品牌:《南轩电子》

    2.设备适用:该设备适用于薄晶圆(到80 µm)以及符合 SEMI单晶圆湿法工艺标准的晶圆。 3.设备特点:采用标准的湿法工艺对硅晶圆片进行清洁、去胶、刻蚀和光刻。全电脑自动控制方式,保护脆弱的薄晶圆在工艺流程中不受损毁。

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