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是行业内唯一 一家入选“中国品牌大会暨建国六十周年全国品牌盘点表彰盛典”并荣获"中国半导体行业影响力十大畅销品牌"的全球顶级制造商!
中普尼TM (CHINAPONYTM)智能匀胶机概述:
Spin Coater ,中文:匀胶机、甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪、光阻旋转涂布机、精密旋转镀膜机、高精度匀胶机旋涂仪等,主要用于液体、胶体在材料表面薄膜的形成.中普尼TM(CHINAPONYTM)智能匀胶机适用于半导体、微电子、新型材料(硅片、玻璃、陶瓷、载玻片、液晶片、ITO导电玻璃、砷化镓、华阳板等材料)的制版及表面涂覆、薄膜制备等工艺,应用于大专院校、科研机构及相关行业生产企业等单位作教学、科研、生产之用,为微电子、光电子及太阳能电池研制领域中不可缺少的关键设备之一. 中普尼TM(CHINAPONYTM)的Spin Coater客户群遍布全球著名的高校、科研院所和相关行业生产企业的研发与生产中心,为全球范围内使用频率最高的匀胶机亦是最受欢迎的Spin Coating.
Spin Coater:CPN-KW-10A型号简述(国际品质、万级转速、精度更高、性能更强、Wafer涂敷尺寸更大)
本机搭载高智能电脑控制系统:其卓越的操作系统非常稳定,可实现均匀调速,且转速更高,最高转速为10000转,最低转速300转;精度更加精确,其稳定度为±0.1 %,为国际行业最高标准;吸力更强,噪音更低; 时间预设以秒为精度,匀胶时间最长可达9999秒,制膜过程控制更加精确;采用优质智能伺服电机,保证了电机的寿命,使电机运行更平稳;整体静音结构,配置优质轴承,静音电机,确保电机运行宁静;可以预设置七种不同规格尺寸Wafer的工作程序 ,每段工作程序又可以设置25步不同的旋转涂敷速度状态,同时LED同步即时显示详细的工作状态:段数程序、时间、速度、真空状态等详细指标参数,并 LED节能灯设计,低功率、低能耗。
具有双重保险功能,内置高灵敏度真空度传感器,高智能电脑控制系统实时检测每段匀胶工作程序真空度,使吸附中的Wafer更加坚固、最大可能避免了甩片导致实验失败的现象;
本机在启动时,若系统真空度未达标准状态,高智能电脑控制系统具有自动停机保护性能,避免Wafer的破损和胶液的浪费。
导入无需修理,以更换部件为理念的A/S系统。
CPN-KW-10A外观表面由工业级不锈钢构造,采用综合性能较强的表面拉丝处理生产工艺,具有良好的不锈性和耐化学介质腐蚀等良好性能,其机身流线型支架经全方位工业造型精心设计,柔美不失稳重、简洁美观、坚固耐用、稳定性更强、使用寿命更长。
本机同时在欧州、美国、大中华区(含新加坡、台湾、香港、澳门)等区域营销服务,为方便全球各区域工作者语言使用习惯操作,因此在本机中设置存储了中文和英文两种主要官方语言程序。
电源电压:100V /60Hz 或110V /60Hz 或 220V/ 50Hz
匀胶转速:300 - 10000r/min ; 匀胶时间:1--9999 秒
转速稳定度:±0.1 % ; 最高转速10000RPM.
尺寸:260mm(宽) x 350mm(深) x 260 mm(高)
适合:¢1-¢170mm(6.7”及6.7”以下)硅片及其它化合物等材料薄膜.
1,基底材料工作腔体与安全盖板:
便携式DIY工作腔体和真空吸盘,由天然聚丙烯材质构造,具有防污、防尘、防撞击、防酸碱、防腐蚀、易清洁等良好优点,具备高强度的防刮划能力,即便出现跌落、乱擦等状况亦不会影响;同时不仅方便直接观察涂敷工作过程亦可防止光刻胶等胶液飞溅腔体外,其光滑的内壁工作腔体结构不仅方便胶液的回收亦可方便清洗,使得工作更加环保、净化、人性化。安全盖板由高分子材料聚甲基丙烯酸甲酯构造,其化学性质稳定,具有耐冲击性、耐久性、耐侯性、耐燃性、绝缘性良好、对人体无毒,更有极高的透明性,可在实验工作中随时观察旋涂过程。
2,最大旋涂负载:额定正常最大承载直径170毫米的晶圆片或者125x125毫米的方片.
3,原装标准辅机设备:(1)高真空度无油真空帮浦一台(2)原装天然聚丙烯真空吸盘两个。
4,高真空度无油真空帮浦系统:质地结实耐用,光滑坚硬,持久耐磨,铝合金压铸,寿命长久,精密组合,灵活运转,高效散热,减低马达温度,可防止杂物进入和人体伤害。
1,额定电压/频率 V/Hz:100V/60Hz 或110V/60Hz 或220V/50Hz
2,重新启动压力:0KPa
3,最大空气流量 m3/h:5.1m3/h
4,最大真空度KPa:-740mmHg 。
Item |
Specification |
Power |
100V /60Hz or 110V /60Hz or 220V/50Hz |
Speed range |
300 - 10000 r/min |
Speed stability |
±0.1 % |
Glue uniformity time |
1 -- 9999(S) |
Application |
¢1-¢170mm silicon and other materials |
Vacuum pump |
Vacuum pump exhaust rate 5.1m3/h |
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