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    气氛管式炉

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-炉类设备

    库       存:

    10

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-炉类设备


    1.设计温度:1200℃
    2.炉膛材质:优质气炼石英管
    3.恒温区:根据客户要求(恒温区内温差±1℃)
    4.控制温区点数:石英管外3个测温点,采用3支铂铑热电偶;石英管内1个固定测温点,采用K型热电偶;石英管内1个可移动测温点,K型热电偶,用于测量温度分布及校准。
    5.加热元件:优质电阻丝
    6.最大加热功率根据工艺要求而定
        7.气路配件材料卡套密封;两路气体采用质量流量计控制,方便设定气体流量。
    8. 极限真空预抽真空 :一级机械泵2X—4(1.0Pa 10min
    9. 外形参考尺寸可定
    10. 控温精度:±1℃。
        11. 电源:三相五线制,AC380V 50Hz。
        12. 温控表:日本岛电,25段可编程序。
        13. 控制方式:过零触发。
        14. 真彩触摸屏+PLC程序控制
        15. 气路系统气密性:1×10-7 Pa·M3/S
        16. 最大升温速率:15℃/Min
        17. 质量流量计精度等级:0.2%FS—0.5%FS:
        18. 质量流量计测量范围:依据客户工艺选择
        19. 每台流量计前各有一个过滤阀
    20. 每条管路各配有一个单向阀来杜绝气体的倒流。
        21. 工作腔体压力通过数字真空计直观显示。
        22. 工艺气体在进入工作腔体前经过混气包来实现工艺气体按比例混合
        23. 所有气路管件包括阀门均采用耐腐蚀不锈钢(可耐H2S气体高温工作环境)

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