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    真空炉

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-炉类设备

    库       存:

    10

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-炉类设备


    从结构上分为卧式、立式、箱式,从真空度上分为低真空、高真空,从使用温度上分为低温、高温,从真空室材料上分为石英管、耐热          
     
    不锈钢管,从真空获得上分机械泵、机械泵+扩散泵、机械泵+分子泵。
        设备用途:广泛用于电力电子器件、玻封二级管、气体放电管、磁性材料、热敏电阻等器件的真空烧结、封装、焊接、合金、退火等工艺。
        主要技术指标:
     ★工位:      单、双、三工位
     ★工作温度:   300~1100℃(不锈钢真空室最高1000℃)
     ★真空度:    优于5×10-3 Pa
     ★真空室直径:Φ150~300 mm
     ★恒温区长度:400~1000 mm
     ★控制精度: ±1.0~3.0℃
     ★炉体移动速度:0~400 mm/min
     ★最大充气压力:0.5 MPa (不锈钢真空室)
     ★加热功率:    10~80 KVA
     ★控制系统:   进口仪表+PLC+触摸屏
     ★安全连锁保护:超温、断偶、缺水、压力异常保护报警

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