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    SENTECH 原子层积淀(ALD)

    产品品牌

    Sentech

    库       存:

    1

    产       地:

    德国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:Sentech

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-镀膜设备-原子层沉积ALD

     ALD逐层沉积,在三维形貌沉积中保持高的均匀性,通过工艺过程中分步添加前置物,可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法,通过将自由基(radical)的气体样品,而不是水(沉积过程中作为氧化物oxidizer)。 


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