恩科优(NXQ)4000系列半⾃自动掩膜对准曝光系统,融合了独立的模块化设计,精准控制对准和曝光等特点。自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用,适合实验室多用户使用。该系统以其卓越的性能,经济的价格,深受全球用户喜爱,截止2011年底,超过4000台NXQ光刻机遍布全世界的科研实验室、研发中心和工业生产线。
系列型号(根据曝光基片的尺寸范围选择合适的型号)
NXQ4006 半自动型(可处理最大到6英寸的基片)
NXQ4008 半自动型(可处理最大到8英寸的基片)
适用领域(包括但不限于下述领域的光刻工艺)
微电子
LED/HB LED
3D IC/晶圆制造工艺
2.5D Interposer
MEMS
BioMEMS
微流控芯片
化合物半导体
太阳能(HCPV)
光电子