电子束蒸发系统
用途
• 研发电子束沉积
• 剥离蒸发
• 阴影蒸发
• 光学膜
• 超导体的发展
特点
• 最优化的电子束蒸发工艺
• UHV 兼容设计
• 便于开启的腔室,易于操作的沉积源
• 模块化样品台
• 固态电源电子束源与离子源控制系统
• 控制软件
• 高真空涡轮分子泵
功能选项
· 可升级到低温泵或磁悬浮涡轮泵超高本底真空泵
· 可升级到干式粗抽泵
· 基片旋转,加热,冷却和偏压功能
· 反应气体进气
· 离子源(辅助沉积或刻蚀)
· 可调节的基片与蒸发源距离
· 可升级进样室功能
· 高功率电子束源
· 上游或下游压力控制
咨询
工艺腔室:UHV 级,304不锈钢, 名义尺寸14英寸直径X 37英寸高
售后保障
质保期:客户确认签收之日起12个月,可支付额外的费用延长质保期