扩散炉应用于半导体器件,分立器件,光电子器件,电力电子器件,太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。
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shangdangshengjie 2017-08-25
可配工艺管外径:2-8英寸
可配工艺管数量:1-4管/台
工作温度范围:400-1286
恒温区长度及精度:300-1250mm 800-1286度
单点温度稳定性:800-1286度 +-0.5度/24h
最大可控升温速度:15度/min
最大降温速度:5度/min
我司可为用户量身定制非标设备