网站首页

|EN

当前位置: 首页 » 设备馆 » 真空等离子清洗机 »等离子清洗机、刻蚀机、去胶机、活化机
    包邮 关注:395

    等离子清洗机、刻蚀机、去胶机、活化机

    应用于半导体行业:

    真空等离子清洗机

    产品品牌

    戈德尔guarder

    库       存:

    1000

    产       地:

    中国-山东省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    1000.00
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:戈德尔guarder

    型号:

    所属系列:真空等离子清洗机

      产品特点 
       WB240等离子体清洗机采用专利高密度微波等离子技术,用于半导体生产中晶圆的清洁和等离子体预处理,微波等离子体清洗具有高度活性、高效,且不会对电子装置产生离子损害。   
    微波等离子清洗机主要用途: 
      ·等离子体表面改性
      ·有机物表面等离子体清洁
      ·邦定强度增强
      ·等离子体刻蚀应用
      ·等离子体灰化应用
      ·增强或减弱浸润性
      ·其它等离子体系统应用
    >> 技术参数
     ◆ 外形尺寸(不包括报警灯)
        1000(W)×800(D)×1750(H)mm
     ◆ 仓体结构(石英,约20升)
        Φ 245mm ×400Lmm  
     ◆ 等离子发生器(德国)
        频率2.45GHZ,功率0-1000W连续调节,可连续长时间工作
     ◆ 控制系统
        触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界著名品牌电器元件,性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式
     ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)
        英国爱德华斡旋式干泵 GV40
        美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器      
        台湾气动真空角阀、充气阀、DN63不锈钢真空波纹管 
     ◆ 充气系统
        美国MKS高精度电子质量流量计(2路气体配制)
        美国世伟洛克气体管路及接口组件,德国双级减压阀

        日本SMC及CKD高真空气阀组件

     

    >> 相关应用    

      - 晶圆光刻胶清洗  

    咨询

    购买之前,如有问题,请向我们咨询

    提问:
     

    应用于半导体行业的相关同类产品:

    服务热线

    4001027270

    功能和特性

    价格和优惠

    微信公众号