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主要技术特点
对准工作台：
对准精度高，漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩模版使用寿命。
曝光系统：
采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等精密光学件，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
分离视场显微镜：
在X、Y方面进行大范围扫描观察，可进行单视场或双视场切换，提高对准效率和套准精度，同时兼容CCD成像显示功能。
电气控制:
采用可编程控制器（PLC）、LCD显示屏，操作方便，汞灯电源易于触发，可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造，气动元件采用SMC的产品，提高了设备的稳定性、可靠性，同时提供个性化服务。
详细参数：
工作台行程：
X向：±5mm Y向：±5mm
Z向：3mm θ向：±12°
掩模尺寸：Max5″×5″
基片尺寸：Maxφ4″
基片与掩模微分离间隙：0-0.05mm
曝光分辨率：1.0um（真空接触）
曝光系统及波长：采用250W超高压
汞灯，UV365
曝光方式：真空接触、硬接触
曝光时间：0-999.9s连续可调
曝光面积：φ108mm
曝光不均匀性：±3%
分离视场显微镜
总倍率：100×（50×可选）
扫描范围：50mm×50mm
调焦范围：8mm
物镜分离距离：28-90mm
所需设施：
输入电压： ～220V±22 V(50Hz)
整机功率： 1KW
室内光线: 红色、黄色
压缩空气： 0.5~0.7MPa
氮气： 0.2~0.4MPa
真空： －0.08~－0.1MPa
体积及重量：
外形尺寸： 830mm×690mm×12700mm
重量：300kg
