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    包邮 关注:306

    清洗液 奥首

    应用于半导体行业:

    半导体原材料-化学品

    库       存:

    1000

    产       地:

    中国-江苏省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体原材料-化学品

     
    产品名称 产品外观 密度 pH(3%) 用途及使用方法 产品特点
    APVS3001 无色至淡黄色透明液体 1.00-1.10 12.0-13.0 用于蓝宝石片研磨抛光后清洗;浸泡或超声下与水稀释使用,温度55-65℃。 (1)碱性水基体系,清洗能力强;(2)易漂洗,清洗后表面颗粒少;
    APVS3002 无色至淡黄色透明液体 1.00-1.10 12.0-13.0 用于蓝宝石片研磨抛光后清洗;浸泡或超声下与水稀释使用,温度55-65℃。 (1)碱性水基体系,清洗能力强;(2)易漂洗,清洗后表面颗粒少;
    APVS3006 无色至淡黄色透明液体 1.10-1.20 12.0-13.0 用于蓝宝石片研磨抛光后清洗;浸泡或超声下与水稀释使用,温度55-65℃。 (1)碱性水基体系,清洗能力强;(2)显著提高退火前清洗良率;
    APVS3008 无色至淡黄色透明液体 0.70-1.00 12.0-13.0 用于PSS片、外延片和芯片的清洗,代替硫酸/双氧水体系;浸泡或超声下与水稀释使用,温度45-50℃。 (1)碱性水基体系,替代硫酸/双氧水和丙酮清洗;(2)单位体积清洗片数多;(3)环保、安全,使用方便;

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