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    去光阻液 奥首

    应用于半导体行业:

    半导体原材料-化学品-溶剂溶液

    库       存:

    1000

    产       地:

    中国-江苏省

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    客服电话:4001027270

    品牌:

    型号:

    所属系列:半导体原材料-化学品-溶剂溶液

     
    产品名称 产品外观 密度 pH(3%) 用途及使用方法 产品特点
    ASTP100 无色至淡黄色透明液体 1.00-1.10 11.0-12.0 用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。 (1)碱性有机体系; (2)对Al,GaAs不腐蚀;
    ASTP120 无色至淡黄色透明液体 1.00-1.10 11.0-12.0 用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。 (1)碱性有机体系; (2)对Al,GaAs不腐蚀; (3)去胶寿命长;
    ASTP130 无色透明液体 1.00~1.10 11.0~12.0 用于半导体和 LED 芯片正性和负性光刻胶的去除 清洗能力强,正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性,使用寿命长
    ASTP150 无色至淡黄色透明液体 1.00-1.10 11.0-12.0 用于蓝宝石和砷化镓衬底芯片的去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。 (1)强碱性有机体系; (2)去胶能力强,高效去除ICP后的残胶;
    ASTP210 无色至淡黄色透明液体 1.05~1.10 11.0~12.0 用于半导体和 LED 芯片正性和负性光刻胶的去除 清洗能力强,正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性,使用寿命长
    ASTP300 无色至淡黄色透明液体 1.00~1.10 2.0~3.0 用于半导体和 LED 芯片、PSS 片正性和负性光刻胶的去除 清洗能力强,正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性,使用寿命长
    ASTP316 淡黄色透明液体 1.00-1.10 2.0-3.0 用于黄光GaAs芯片去胶;浸泡或超声下原液使用,温度80-85℃。 (1)酸性有机体系; (2)对GaAs无腐蚀;

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