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产品名
钒靶
元素符号
V
纯度
2N5, 3N
形状
平面靶， 旋转靶
工艺
金相检测
我们生产过程的灵活性使我们能适当调整靶材的微观结构来达到你想要的效果，如果溅射靶材的晶粒大小均匀一致，用户可以获得良好的溅射速率和均匀镀膜层。下图是钒溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片，平均粒径<100um。
成分分析
我们生产高纯度的溅射靶材，它最重要的好处是在物理气相沉积的过程中，能获得具有优异的导电率和颗粒最小化的薄膜。以下表格是3N高纯钒溅射靶的成分分析证明书。
分析方法：
1，使用GDMS或ICP-OES对金属元素进行分析；
2，使用LECO进行气体元素分析。
