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品牌:领势
型号:
所属系列:半导体加工设备耗材-镀膜设备耗材-镀源、靶材
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
材料及符号
纯度
规格
二氧化锆靶(ZrO2)
4N
平面靶,圆柱靶,台阶靶,管状靶
氧化锌靶(ZnO)
3N,4N
五氧化二钒靶(V2O5)
3N
氧化钨靶(WO3)
二氧化钛靶(TiO2)
一氧化钛靶(TiO)
一氧化硅靶材(SiO)
氧化钕靶(Nd2O3)
三氧化二钼靶(Mo2O3)
氧化钼靶(MoO)
氧化镁靶(MgO)
三氧化二铟靶材(In2O3)
4N,5N
氧化铜靶材(CuO)
三氧化二铬靶材(Cr2O3)
三氧化二铋靶(Bi2O3)
三氧化二铝靶(Al2O3)
氧化锌铝靶(AZO)
3N5,4N
平面靶,旋转靶
氧化铟锡靶(ITO)
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