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    蚀刻机CVD SiC聚焦环

    产品品牌

    TBM

    库       存:

    888

    产       地:

    韩国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    10000.00
    交易保障 担保交易 网银支付

    客服电话:4001027270

    品牌:TBM

    型号:

    所属系列:半导体加工设备耗材-刻蚀耗材-陶瓷盘

           CVD Bulk(纯固体) SiC材料是由大量的化学气相沉积(CVD)中产生的固体过程而生成的高纯SiC材料(99,9995%=5N)

    在理论上CVD SiC材料是超纯细粒度(5N)致密的微观组织,没有空隙或微裂纹,具有ß立方晶体结构。

    CVD Bulk(纯固体) SiC,它优于传统的碳化硅形式,以及其他陶瓷,石英,和金属。

     

    CVD Bulk(纯固体) SiC具有如下的各种优越性能:

    ①优良的耐化学腐蚀(纯SiC不会被HCl、HNO3、H2SO4和HF等酸溶液以及NaOH等碱溶液侵蚀)。

    ②具有热稳定性,抗热震性能,抗疲劳性能,抗氧化性能, 可使用用于温度达1700°C.- 1800°C环境。

    ⑶高导热系数,但是热膨胀系数却低,具有良好的热和机械性能。 

    ④优越的平整度,保持平坦刚度 (1700°C) ,优良的耐磨性及镜面装饰性,可擦拭至<3ÅRMS(1000Ω厘米)

    ⑤低电阻,(体电阻率为0.012),具有高温半导体电性。

    ⑥高硬度(仅次于钻石),高刚度,高强度,高弹性模量,高耐磨损性,所以尺寸稳定性好,具最好的刚度/重量比。

    目前CVD Bulk(纯固体) SiC产品开始应用在半导体装备体制造业中需要超高温和等离子蚀刻/光刻等恶劣环境中。
           该类产品来替代由石墨或金属硅,石英材料制作的现有各种易损另部件

          CVD Bulk(纯固体)SiC市场并不是开拓新领域,而是要替代现有硅材料的初级阶段 -由于半导体行业都正在增设大直径(>300mm)晶圆工         厂而市场规模日趋扩大,目前由CVD Bulk(纯固体)SiC来替代原先使用的硅材料的半导体市场规模仍不到5% 。为了适用於半导体器件制造工       程,考核验证产品质量的时间整整花费了3年 以上,现已通过验证并处于扩大应用阶段 由于韩国半导体龙头企业已经负担了开发成本,减少风        险,现在可以直接投入批量生产及应用创造条件=> 现在正是后发企业进入推广应用的最佳机会 。半导体市场规模而言,一旦把石英部件也要      由CVD Bulk(纯固体)SiC材料来替代的话,其市场规模肯定要比替代硅材料的市场大得多呀!

     

     

     

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