德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

薄膜沉积 刻蚀 薄膜制程 表面处理 清洗

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公司介绍

First-Nano System GmbH
2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)


2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司  


2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

 
公司档案
公司名称: 德国韦氏纳米系统(香港)有限公司 公司类型: 企业单位 ()
所 在 地: 中国/香港 公司规模:
注册资本: 未填写 注册年份: 2000
资料认证:
经营范围: 薄膜沉积 刻蚀 薄膜制程 表面处理 清洗
主营行业:
半导体清洗设备 半导体清洗设备耗材 半导体加工设备
半导体加工设备耗材 半导体测试设备 半导体测试设备耗材