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设备馆
高温氧化炉用于SiC或Si的高温氧化等工艺由青岛精诚华旗提供
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高温退火炉应用领域用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺
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LPCVD用于4/8英寸多晶硅,氮化硅,氧化硅(或LTO),SIPO薄膜生长工艺
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石墨烯LPCVD应用:用于石墨烯薄膜生长 青岛精诚华旗定制
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氧化/扩散炉系列应用于集成电路,分立器件,光电子器件,电力电子器件
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