湖北江海行工贸集团有限公司

湖北江海行工贸集团有限公司，成立于2010年，简称“江海行集团”，是以团簇离子束、PVD、PACVD涂层技术为主导，集涂层研发、生产、加工为一体的国家重点高新技术企业。公司产业有PVD、PAVCD涂层设备、团簇离子束设备、涂层加工服务、离子加工服务、激光加工服务、农业产业、户外运动及体育防护用品产业等。产品远销俄罗斯、日本、韩国、意大利、瑞典等国家和地区。

江海行集团同俄罗斯航空材料院、美国阿贡国家实验室、韩国东国大学、乌兹别克科学院、韩国大成公司等多家国外单位有密切的合作关系，依托武汉大学和三峡大学等高等院校及科研院所的人才、研发及技术优势，校企联合发展，成立了地方国家级工程技术研究院，建立了校企联合共营的创新研发平台和科研成果产业化基地，其中团簇离子束和PVD涂层获得国家科技部中小企业创新基金、国家科技重大专项和国家发改委工业专项的大力支持。集团公司在华中武汉和宜昌、长三角苏州、珠三角深圳和东莞、环渤海沈阳等地良好发展，下属6家分公司。加快推进了科技成果向产业化转化，充分发挥自主知识产权核心竞争力，不断促进了经济及社会效益。同时广邀国内外专家学者，为产业发展壮大储备技术，凝聚智力资源，汇聚各路英才，共创江海行集团美好未来。

    主要产品介绍：

    一、PVD涂层

    该项目是国家重点科研项目，是由国内外多所知名院校经过近20多年的研究，于2010年获得国家专利保护的项目。PVD涂层，也叫PVD镀氮化铬。它的发明：一是完全无污染，取代了过去高污染的电镀铬；二是大大提高了产品的耐磨性和表面硬度；三是可以实现大批量的稳定性生产；四是市场前景广阔，如钢铁、铝、塑料、铜合金、液压汽缸、内燃机活塞、曲轴、印刷机械、切削工具、医疗用品和武器装备等都需要涂层（镀铬）加工。

    PVD是离子加工技术最简单的应用。PVD工艺用等离子体轰击的方法把金属靶材中的原子溅射出来，沉积在工件表面。由于在工件上施加了负偏压，离子是以较高的能量轰击其表面，因而镀层与表面具有很强的结合力。而镀膜过程用氮气作工作气体，在工件表面形成的涂层是氮化物，因而具有远远高于金属镀层的表面硬度。

    该项目在技术上的主要特色和创新点如下：

    1、设备研发。该项目开发大功率离子源、等离子体增强沉积技术，主要采用弧光离子源、闭合磁场、孪生双靶、中频磁控溅射与电弧离子镀相结合的沉积技术，研制f800´1000mm至f1200´1200mm规格的PVD设备，达到制备超硬涂层和低摩擦系数涂层的要求。其中，内外双靶磁控溅射技术为国内外首创，获得发明专利。

    2、发动机活塞环涂层加工。研制开发的PVD设备用于制备氮化铬涂层，替代电镀铬层，应用于发动机活塞环表面改性，建立镀膜生产线，实现批量生产。该技术为零污染排放的绿色高新技术，可以根除电镀铬引起的重金属污染，而且可以提高发动机活塞环的综合技术性能。主要技术指标优于电镀铬层，加工能力可达4000-6000片/炉，成品率达到95%，为国内最佳，接近日本理研公司的先进水平。该技术为课题组自主研发，获发明专利。课题得到科技部对俄罗斯科技合作专项支持（2011-2013）。

    3、超硬涂层刀具加工。用PVD技术制备超硬涂层，并应用于硬质合金刀具表面改性，硬度得到4000Hv。该项目得到国家科技重大专项支持，与厦门金鹭特种合金有限公司（刀具龙头企业）、中航工业成都飞机制造有限公司等单位联合开发，获发明专利。通过设备更新达到国际先进水平。

    二、团簇离子源设备研发

    该项目研发用于PVD涂层加工、半导体超浅结制造和纳米材料制备的离子加工技术和设备，满足纳米尺度的材料和半导体器件加工制造的技术需要。主要用于集成电路制造；二维材料制备离子加工与激光加工、电子束加工，各自典型的应用如下：

    激光加工：激光切割、激光焊接、3D打印。

    电子束加工：电子束焊接、电子束蒸发、电子束曝光。

    离子加工：离子注入（集成电路工艺）、离子束辐照、离子束沉积、等离子体沉积（PVD）。

    离子加工涉及的技术和应用范围十分宽泛，该项目重点发展两个方面：PVD和团簇离子束，在3-5年时间内完成PVD技术的产业化和团簇离子束技术的中间试验，为发展湖北及中部地区的真空设备制造与离子束纳米加工产业奠定基础。超大规模集成电路制造是离子加工技术最精致的应用。该项目研发用于半导体超浅结制造和纳米材料制备的离子加工技术和设备，满足纳米尺度的材料和半导体器件加工制造的技术需求。表现在：

    1、集成电路制造。当今信息社会，集成电路无处不在，每一块集成电路的制造都离不开离子注入工艺。随着集成度不断提高，器件尺度不断微缩，结深越来越浅，必须采用低能离子注入工艺，而低能条件下束流必然降低，且单体离子注入难以避免沟道效应，必须采用团簇离子束，其关键设备就是团簇离子源。国内虽有团簇离子的基础研究工作，但设备研发和技术应用基本处于空白，与我国迅速发展的集成电路制造产业极不相称，导致的后果是集成电路生产的关键设备高度依赖进口。

    2、二维材料制备。以石墨烯为代表的二维超薄材料的发现，为质量选择的团簇离子束带来了新的用武之地，团簇离子束设备研发呈现出气体团簇和固体团簇离子束并重的发展趋势，为团簇离子束及团簇离子加工技术提供了更为广阔的市场。该项目开展团簇离子源的设计和试制，开发出工程样机，用于超浅结注入、超薄材料制备的中间试验，并与应用厂家合作，开展应用推广，达到部分替代进口的目的。