东莞市中镓半导体科技有限公司

(1)GaN半导体衬底材料,包括GaN衬底,GaN/ Al2O3复合衬底,图形化蓝宝石衬底(PS...

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公司介绍

一、公司成立

东莞市中镓半导体科技有限公司成立于2009年1月,总部设于广东东莞,总注册资本为1.3亿元人民币,总部设立厂房办公区等共17000多平方米,并在北京设立面积达1000平方米的大型研发中心,为中国国内首家专业生产氮化镓(GaN)衬底材料的企 业。
二、人才队伍
企业以北京大学宽禁带半导体研究中心为技术依托,引进国内外优秀的技术及管理团队, 2010年获建博士后工作站,截至2016年有院士1人,教授级别人员共6人,博士13人,硕士12人,拥有先进的技术及管理优势。
三、公司资质和荣誉

   2009年成立北大中镓半导体研究中心;同年被广东省人民政府批准的首批创新科研团队;成为广东省现代产业500强项目;被广东省科学技术厅评为“国际科技合作基地”。

   2011年被全国高科技质量监督广东委员会评为“广东省科技创新  质量管理先进单位”;同年被广东省科学技术厅评为“广东省民营科技企业”、被广东省经济和信息化委员会评为“广东省战略性新兴产业骨干企业”。

   同时2015年10月,公司被科学技术部认定为“国家国际科技合作基地”。入选《广东经济》理事学会理事单位、东莞市电子元件协会常务副会长单位、东莞电子信息产业 数码产业协会常务副会长单位、东莞市半导体行业副会长单位、CSA国家半导体照明工程研发及产业联盟成员单位等。
四、主营业务与专利技术

    本企业创造性地采用MOCVD技术、激光剥离技术、HVPE技术相结合的方法,研发、生产产品包括:(1)GaN半导体衬底材料,包括GaN衬底,GaN/ Al2O3复合衬底,图形化蓝宝石衬底(PSS);(2)生产上述产品的设备,如激光剥离设备、HVPE设备等。对相应技术拥有自主知识产权,截止2016年3月,中镓公司共拥有专利97项,其中已授权专利46项(包括发明专利27项,实用新型17项,外观设计1项),已受理专利52项。申请PCT国际发明专利5项,其中2项已获得美国、欧洲、日本、韩国等国家和地区的授权,相关专利技术处于国际先进水平。使本企业在国内国际竞争中处于一个优势位置。
五、公司发展与规划

   目前,公司已建成国内首家专业的氮化镓(GaN)衬底材料生产线,制备出厚度达1100微米的自支撑GaN衬底,并能够稳定生产。

   相关产品技术达到国际先进乃至国际领先水平,形成世界一流的国内最大型的衬底材料及半导体设备的生产基地。企业拟以衬底核心技术为基础,全面进入氮化物半导体技术的研发和生产,实现完整的产业链的垂直整合结构发展,打造国际一流的大型半导体材料科研生产基地,逐步推进形成达百亿产值的半导体产业集群。

六、公司愿景

   本公司专注于生产高品质的半导体衬底材料、相关先进设备的高精密制造,竭诚为国内外广大用户提供最优质的服务,立足中国,放眼全球,竭力为中国乃至世界半导体行业带来一个新的发展契机。
公司档案
公司名称: 东莞市中镓半导体科技有限公司 公司类型: 企业单位 (制造商,贸易商)
所 在 地: 中国/广东省 公司规模: 100-499人
注册资本: 1000万人民币 注册年份: 2000
资料认证:
经营模式: 制造商,贸易商
经营范围: (1)GaN半导体衬底材料,包括GaN衬底,GaN/ Al2O3复合衬底,图形化蓝宝石衬底(PSS);(2)生产上述产品的设备,如激光剥离设备、HVPE设备等。
主营行业:
半导体原材料